| 시가총액 | 28,072억 |
|---|---|
| 매출성장률 YoY | 15.1% |
| 영업이익률(OPM) | 18.2% |
| ROE | 27.4% |
| PER(TTM) | 41.66배 |
| PBR(MRQ) | 6.02배 |
| 부채비율 | 31.3% |
📊 조회 시점: 2026-07-08 11:00 KST (2026-Q1 기준) / PER·PBR: NAVER 2026-07-08 11:00 KST / 시총: 2026-07-07 KRX 종가 · 보조자료 — NAVER·KRX 표시값, 자사주/희석 미조정
테스는 현재 "돈을 빠르게 잘 벌기 시작한" 국면에 있다. 위 §2-1 표 수치(렌더 시점 자동 생성)를 기준으로 보면, 2024년 연 매출 2,401억원·영업이익 385억원에서 2025년 3,511억원·578억원으로 외형과 이익이 동반 성장했고, 2026년 1분기에는 매출 972억원·영업이익 222억원으로 분기 영업이익률이 22.8%까지 올라왔다. 매출이 15% 늘어날 때 영업이익은 36%, 순이익은 55% 늘어난 것은, 고정비를 넘어선 매출이 이익으로 쌓이는 영업 레버리지가 작동하고 있다는 뜻이다. [FACT]
빚 부담은 매우 가볍다. 2026년 1분기말 부채총계 1,285억원·자본총계 4,100억원으로 부채비율이 31.3%에 그치고, 차입금·사채(약 488억원)보다 현금성 자산과 기타 유동금융자산의 합(약 1,327억원)이 훨씬 커 순차입금이 마이너스(순현금)다. 즉 회사가 빚보다 현금을 더 많이 들고 있어 재무적으로는 외부 충격에 버틸 여력이 넉넉하다. [FACT]
주가가 실적 대비 비싼지는 §2-1 표의 PER·PBR(NAVER TTM 기준)을 참고해야 하며, 본 보고서는 표와 다른 기준의 배수를 별도로 산출하지 않는다. 다만 참고로 이 종목은 최근 상당 폭 상승(증권사 리포트상 저점 대비 약 3배)한 이력이 있어, 성장 기대가 이미 상당 부분 주가에 반영돼 있을 수 있다는 점은 유념할 지점이다. [FACT/추정]
회사가 명시적 연간 실적 가이던스를 공시한 자료는 확보되지 않았으나, 컨센서스 측면에서는 긍정적 흐름이 관찰된다. 웹 자료(④ 보조)에 따르면 하나증권은 2026년 EPS를 기존 대비 11% 상향하고 "올해 영업이익률 최대 갱신"을 전망했으며(2026-01-23), 일부 매체는 2026년 영업이익을 약 1,057억원(전년 대비 +83%)으로 제시했다. 이는 공시·재무 1차 자료가 아니라 언론·증권사 인용치이므로 확정으로 볼 수 없고, 절대치 컨센서스는 교차검증이 더 필요하다. [컨센서스]
달성 가능성은 진도율·수주로 가늠할 수 있다. 2026년 1분기 매출 972억원은 연 환산 시 약 3,900억원 수준으로, 1분기말 수주잔고 1,455억원과 SK하이닉스향 반복 수주가 이를 뒷받침한다. 다만 반도체 장비는 소자업체 설비투자 집행 시점에 실적이 몰리는 특성이 있어 분기별 편차가 크고, 연간 목표 달성은 하반기 고객 발주와 SiGe 신장비 진행 상황에 좌우될 가능성이 높다. [FACT/추정]
반도체 장비 산업은 "반도체를 만드는 공장을 짓고 채우는 설비"를 파는 사업이다. 소자업체(삼성전자·SK하이닉스 등)가 새 라인을 깔거나 공정을 미세화할 때만 장비가 팔리므로, 장비사의 매출은 고객의 설비투자(CapEx) 사이클을 그대로 따라간다. 마치 건설 경기가 좋을 때만 중장비가 팔리는 것과 같은 구조여서, 호황기 집중 투자와 불황기 투자 축소가 반복되는 경기변동성이 크다. 또한 장비는 고객 공정에 맞춰 매번 최적화(커스터마이징)해야 하는 100% 주문생산이라, 소자업체와의 긴밀한 협력관계와 레퍼런스가 곧 진입장벽이 된다. [FACT]
밸류체인에서 테스는 증착(PECVD)과 건식식각(GPE) 장비를 공급하는 위치에 있다. 반도체 전공정은 웨이퍼 위에 막을 입히고(증착), 필요한 부분만 깎아내는(식각) 과정을 수백 번 반복하는데, 테스는 특히 3D 낸드·D램 미세화에 쓰이는 ACL(비정질탄소막) 하드마스크 증착 등에서 국산화 이력을 쌓아왔다. 이 시장은 전통적으로 어플라이드머티어리얼즈·램리서치·도쿄일렉트론 등 해외 대형사가 높은 점유율을 차지해온 영역으로, 2000년대 중반부터 국내 업체들의 국산화가 진행돼 왔다. [FACT]
최근 1~2년의 핵심 트렌드는 두 가지다. 첫째, AI·HBM 수요로 촉발된 메모리 증설 사이클이다. 웹 자료(④ 보조)에 따르면 삼성전자·SK하이닉스가 2026년 AI 수요 대응을 위해 대규모 증설·투자 계획을 밝히고 있어 전공정 장비 수요의 우호적 배경이 된다. 둘째, 차세대 D램 구조 전환이다. 평면(2D) 셀의 미세화가 한계에 다다르면서 삼성전자는 10나노급 이하에서 3D 셀 구조를, 업계 전반은 3D D램으로의 전환을 준비하고 있으며(삼성 2025년 이후 8~9나노, SK하이닉스는 2030년대 목표로 보도), 이 전환은 SiGe 선택적 식각처럼 새로운 공정·장비 수요를 만들어낸다. [FACT/추정]
| 구분 | 2026년 1분기 | 2024년(연간) | 2023년(연간) |
|---|---|---|---|
| 장비(제품) | 827억원 (85.1%) | 3,003억원 | 1,913억원 |
| 기타(부품·CS 등) | 145억원 (14.9%) | 508억원 | 488억원 |
| 합계 | 972억원 | 3,511억원(2025) / 2,401억원(2024) | 2,401억원 |
(장비/기타 세부는 사업보고서 매출실적 표 기준. 2025년 합계는 재무 시계열 기준.) [FACT]
세그먼트별로는 반도체 부문이 매출의 99%, 반도체 외(디스플레이·UVC LED) 부문이 1%를 차지해 사실상 반도체 단일 사업 구조다. [FACT]
2026년 1분기 지역별 매출 비중은 국내 96%·해외 4%로 내수 편중이 뚜렷하다. 이는 주 고객이 국내 메모리 양대사이기 때문이며, 사내 조직도 삼성사업본부·SKH사업본부로 편성돼 있다. 다만 부품·기타 매출에서는 수출 비중이 상대적으로 높아(2024년 기타 부문 수출 158억원) 사후관리·소모품에서 해외 매출이 발생한다. [FACT]
최근 확인된 대형 납품처는 SK하이닉스로, 2026년 3월 반도체 제조장비 265억원(계약기간 2026-03-17~2026-08-17)·5월 215억원(2026-05-20~2027-01-11) 규모의 단일판매·공급계약을 잇달아 체결했다. 대금 조건은 장비 반입 후(FOB) 90%·셋업 완료 후 10%로, 납품·설치 진행에 따라 매출이 인식되는 구조다. [FACT]
테스의 방어력은 "국내 메모리 소자업체 공정에 깊숙이 최적화된 장비를 반복 납품해온 레퍼런스"에서 나온다. 반도체 장비는 고객 공정에 맞춘 커스터마이징과 장기 신뢰관계가 필수라, 신규 진입자가 하루아침에 고객 라인을 대체하기 어렵다. 테스는 PECVD로 시장에 진입한 뒤 2010년 건식식각(GPE), 2013년 3D 낸드용 ACL PECVD를 양산 적용했고, 2016년 이후 고객 다변화(DRAM→NAND→비메모리 공정 확대)에 성공했다. 국내 특허 등록 314건과 SK하이닉스·삼성 전용 사업본부, "최근 3년간 동종계약 이행" 이력이 이 관계형 해자를 뒷받침한다. [FACT]
다만 이 해자는 "국내 특정 고객 내 특정 공정"에 강한 것이지, 글로벌 병목을 장악한 대체 불가능 수준으로 보기는 어렵다. 식각 장비의 상당 영역은 여전히 해외 대형사가 주도하고 있어, 테스는 글로벌 밸류체인의 필수 초크포인트라기보다 국산화 틈새에서 점유율을 넓혀가는 강한 도전자로 보는 것이 타당하다. [추정]
식각 장비 시장은 정량 점유율상 명확히 해외 과점이다. 웹 자료(④ 보조)에 따르면 어플라이드머티어리얼즈·램리서치·도쿄일렉트론(TEL)이 2025년 기준 글로벌 매출의 약 75~90%를 차지하며, 특히 램리서치가 식각에서 약 45%로 단독 1위다. 램리서치는 2025년 3월 차세대 식각 장비 '아카라(Akara)'를 발표해 GAA·6F2 D램·3D 낸드·3D D램(4F2) 대응을 표방했고, GAA 관련 식각 수주의 42%를 확보(2025년)했으며 TSMC 채택이 보도됐다. [FACT]
이에 대해 테스는 정면 대결이 아니라 특정 공정 국산화로 접점을 만드는 전략이다. 언론 보도상 테스는 2026년 연내 3D D램·5나노 이하용 SiGe 초고선택비 식각 장비 개발을 목표로 하며, 사양은 SiGe/에피-실리콘 선택비 약 200배, 웨이퍼 처리량 시간당 36장 이상, 식각 균일도 오차 5% 미만, 친환경(NF₃ 등 온난화지수 가스 배제)으로 제시됐다. 다만 이는 개발 목표 사양이며 양산 검증된 정량 실적이 아니어서, 글로벌 1위와의 직접 성능 비교는 아직 정량적으로 성립하지 않는다. 국산 장비의 강점 논리는 "해외사는 범용 기술에 집중하는 반면 국내사는 국내 소자업체 공정 환경에 최적화된 솔루션을 제공한다"는 맞춤화 우위다. [추정]
시간의 해자 관점에서, 신규 장비는 개발 완료 후에도 고객 퀄(품질 인증) 테스트를 통과해야 양산에 진입하므로 통상 수개월~수년의 검증 기간이 소요된다. 테스가 이미 BSD(KEID, 2022년 양산)·Low-k(SAIPH, 2022년)·Dry Clean(SPICA, 2022년) 등 신장비를 국내 최초로 양산 적용한 이력은 이 검증 사이클을 통과해본 트랙 레코드로 평가할 수 있다. [FACT/추정]
방어력의 실증은 특허 숫자가 아니라 반복 수주와 공동개발 참여에서 확인된다. 테스는 SK하이닉스향 반도체 제조장비 공급계약을 2025년 이후 반복 체결(당사 확인 16건)하고 있으며, 계약서상 "최근 3년간 동종계약 이행" 항목이 '해당'으로 기재돼 지속 거래 관계가 문서로 확인된다. 또한 웹 자료(④ 보조)에 따르면 BSD·Low-k PECVD 장비를 삼성전자·SK하이닉스와 공동개발하며 소량 납품 중으로, 개발 완료·퀄 통과 시 해외 장비 대체 가능성이 언급된다. [FACT/추정]
다만 이러한 방어력은 동시에 집중 리스크의 다른 얼굴이다. 매출의 국내 96%·반도체 99%가 소수 고객에 집중돼 있어, 고객의 설비투자 축소나 경쟁사 대체가 발생하면 방어력이 곧바로 취약점으로 전환될 수 있다. [추정]
테스 매출의 질은 "대형 장비 수주(변동성 큰 축)"와 "부품·CS(반복성 있는 축)"의 이원 구조로 이해해야 한다. 2026년 1분기 기준 장비 매출이 85.1%(827억원), 부품·유지보수 등 기타가 14.9%(145억원)를 차지한다. 장비는 100% 주문생산이라 고객 설비투자 시점에 따라 분기별 편차가 크지만, 설치 장비가 늘수록 사후관리·부품 매출이 누적되는 구조여서 기타 매출은 상대적으로 안정적 기반을 형성한다. [FACT]
락인(전환비용) 효과는 중간 강도로 평가된다. 반도체 장비는 고객 공정에 최적화돼 있고 상주 인원을 배치해 사후관리까지 담당하므로, 검증을 통과한 장비를 다른 공급사로 교체하려면 재퀄·수율 리스크라는 큰 전환비용이 발생한다. 이는 마치 정밀 설비를 한 번 깔면 쉽게 갈아타기 어려운 것과 같다. [추정]
고객 이탈 리스크의 핵심은 소자업체의 발주 자체가 줄거나 해외 경쟁사가 동일 공정을 재장악하는 경우다. 특히 국산화 틈새에서 확보한 물량은 해외 대형사의 신제품(예: 램리서치 아카라)이 같은 공정을 겨냥할 경우 경쟁 압력에 노출될 수 있다. [추정]
현금 런웨이 관점에서 테스의 방어력은 견고하다. 2026년 1분기말 현금성 자산 672억원에 기타 유동금융자산 656억원을 더하면 약 1,328억원의 유동성을 보유하는데, 이는 분기 매출원가+판관비(약 750억원)를 기준으로 봐도 매출이 일시적으로 크게 위축되더라도 상당 기간 운영을 지탱할 수 있는 수준이다. [FACT]
부채 통제력은 매우 양호하다. 차입금·사채 합계 약 488억원(단기차입 60억·유동성장기 37.5억·장기 50억·사채 340.6억)에 비해 현금성·유동금융자산이 훨씬 커 순차입금이 마이너스(순현금 약 839억원)이며, 부채비율은 31.3%다. 1년 이내 만기 금융부채(약 607억원)도 보유 유동성으로 충분히 커버된다. 다만 회사는 연구개발시설 확충을 위해 한국산업은행과 300억원 한도 시설자금대출 약정을 맺고 본사 토지·건물을 담보로 제공한 상태로, 향후 투자 집행 시 차입이 늘 여지는 있다. [FACT]
거시 충격 대응 측면에서, 테스는 국내 매출 비중이 높아 환노출은 제한적이나 미국 달러·일본 엔·중국 위안 표시 자산·부채를 보유한다. 회사 자체 민감도 분석상 각 통화 환율이 10% 변동해도 세전손익 영향은 수십억원 내외로, 실적 규모 대비 관리 가능한 범위다. 더 본질적인 거시 리스크는 환율이 아니라 반도체 설비투자 사이클의 방향성으로, 고객 CapEx 둔화 시 고정비(인건비·감가상각) 부담이 OPM을 압박할 수 있다. [FACT/추정]
비관론의 첫 번째 축은 밸류에이션이다. 주가가 저점 대비 약 3배 상승한 이력이 있어(증권사 리포트 언급), 실적 성장 기대가 이미 상당 부분 반영됐을 수 있고 이 경우 성장 둔화·기대 미달 시 멀티플이 빠르게 축소될 위험이 있다. [추정]
두 번째 축은 고객·사업 집중이다. 매출의 국내 96%·반도체 99%가 소수 소자업체에 집중돼 있어, 고객 한 곳의 설비투자 축소만으로도 수주 공백이 발생할 수 있는 구조적 취약성이 있다. 반도체 장비 산업 특성상 발주가 특정 분기에 몰렸다 비면 실적 변동성이 크다. [FACT/추정]
세 번째 축은 SiGe 3D D램 식각 장비 국산화의 불확실성이다. 이 모멘텀은 현재 언론(디일렉) 단독 정보이며 DART 공시·회사 공식 자료로 확인되지 않았다. 개발 목표 사양은 제시됐으나 양산 검증·고객 퀄 통과가 남아 있고, 램리서치 아카라 등 해외 대형사도 동일 공정(3D D램·GAA 식각)을 겨냥하고 있어 경쟁에서 밀릴 경우 기대가 무산될 수 있다. [추정]
자금 조달 리스크는 현재 낮은 편이다. 순현금(약 839억원) 구조에 부채비율 31.3%로, 대규모 유상증자·전환사채 발행 압박이 나타날 재무 상황은 아니다. 다만 산업은행과 300억원 한도 시설자금대출 약정을 체결하고 본사 토지·건물을 담보로 제공한 상태여서, 연구개발시설 확충 등 투자 확대 시 차입이 증가할 가능성은 있다. [FACT]
경영진·지배구조 관련 특이 리스크(소송·횡령·경영권 분쟁 등)에 대한 구체적 자료는 본 라운드에서 확보되지 않았다. 해당 항목은 §10-2에 등재한다. [N/A]
첫 번째 성장 동력은 SiGe 3D D램 식각 장비 국산화를 통한 신규 시장 진입 메커니즘이다. 삼성전자·SK하이닉스가 3D D램으로 전환하면 SiGe를 선택적으로 깎아내는 초고선택비 식각 공정 수요가 새로 생기는데, 이 영역은 현재 어플라이드머티어리얼즈·램리서치·TEL의 수입 장비에 의존한다. 테스가 국내 소자업체 공정에 최적화된 국산 장비로 이 수요를 흡수하면, 기존 증착(PECVD) 중심 매출에 식각이라는 새 카테고리가 더해져 대응 가능 시장(SAM)이 확장되고 실적 성장의 새 축이 생긴다. 구체적 개발·검증 일정은 §8-3 참조. [추정]
두 번째 동력은 신규 PECVD 라인업의 고객 내 침투 확대다. 테스는 BSD(KEID)·Low-k(SAIPH)에 이어 EUV용 언더레이어 ACL(Challenger TE), 고생산성 SiCN(TETRA), HDACL(CYGNUS) 등을 개발 중인데, 이들이 양산 적용되면 고객사 장비 목록(BoM) 내 테스 채택 공정 수가 늘어난다. 채택 공정이 늘수록 고객당 판매 수량·평균 판가가 함께 확대돼 매출과 수익성이 동반 상승하는 경로다. 일정은 §8-3 참조. [추정]
구조적 변화의 핵심은 "증착 전문사에서 증착+식각 종합 전공정사로의 카테고리 확장"이다. 식각은 증착과 함께 전공정의 양대 축으로, 테스가 식각 장비 국산화에 성공하면 단일 카테고리 의존을 완화하고 고객 내 지갑 점유율을 높일 수 있다. 이는 단순 물량 증가를 넘어, "국산화 대체재를 공급하는 종합 장비사"라는 지위 변화로 PER 자체를 리레이팅시킬 수 있는 논리다. [추정]
또 다른 확장 축은 내수 편중 구조의 완화 가능성이다. 현재 매출의 96%가 국내지만, 신장비가 해외 고객 퀄을 통과하거나 부품·CS 수출이 늘면 지역 다변화가 진행될 수 있다. 다만 이는 아직 초기 단계로, 구조적 전환으로 단정하기보다 관찰 대상 가설로 보는 것이 타당하다. 시기·정확한 일정은 §8-3 참조. [추정]
기준 가격: 145,000원 (2026-07-07 종가, 출처 current_market_metrics)
산식: 예상 주가 = (예상 매출 × OPM × 적용 PER) ÷ 발행주식수
본 리포트는 한국 금융감독원 DART 공시(단일판매·공급계약·2026년 3월 분기보고서 사업의 내용)·KRX 시세·분기 재무제표를 1차 자료(MCP)로 삼아 작성됐다. 발행일 직전 30일 최신성은 신규 공시(disclosure_search)와 신규 뉴스·증권사 리포트(freshness_check, NAVER)를 각 1회 점검해 확인했으며, freshness_check는 available=true로 실행돼 신규 증권사 리포트 0건·뉴스 15건(대부분 종목 무관 노이즈)이 확인됐다. 산업(§3)·글로벌 경쟁(§5)의 정성 맥락은 웹 검색 결과(④ 보조)로 보강했으며, 이는 1차 자료가 아니라 교차검증·맥락용으로만 사용하고 출처를 병기했다. 리포트 상단의 실시간 시장 데이터 패널(주가·관심도·수급·컨센서스)은 발행 시점에 자동 조회되는 별개의 데이터다. 자료 시점은 표지의 리포트 생성일(2026-07-08)을 기준으로 한다.
본 리포트의 모든 분석은 AI가 자율 수행했으며 투자 의견을 포함하지 않는다. 특히 SiGe 식각 장비 국산화·2026년 영업이익 컨센서스 절대치 등 일부 항목은 언론·웹 단독 소스로만 확보돼 DART 공시로 확정되지 않았으며, 재무 시계열 도구가 반환한 TTM 합산치는 누계·단독 분기 기간이 중복 합산돼 있어 채택하지 않고 연간·분기 공시치를 우선 사용했다. 자료 시점 컷오프 이후 발생한 사실은 반영되지 않으며, 후속 라운드에서 회수가 필요한 항목은 아래 "2) 조사 한계 및 후속 검증 항목"에 카테고리별로 등재했다.
[검증 필요] §8-3·§9 — SiGe 초고선택비(200배) 3D D램 식각 장비 연내 개발 사실이 언론(디일렉) 단독 소스이며 DART 공시·회사 공식 자료로 미확인. 사유: 계약·공시화 이전 R&D 단계 정보. 회수: 회사 IR·후속 공시 disclosure_search(corp_code, keywords=["식각","SiGe","개발","국산화"]) 및 회사 보도자료 재검색.[검증 필요] §2-3·§9 Base — 2026년 연간 영업이익 컨센서스 절대치 미확보(하나증권 EPS +11% 상향·메리츠 목표주가 200,000원·일부 매체 영업이익 1,057억원(+83%)만 확인). 사유: freshness_check상 최근 30일 신규 증권사 리포트 0건으로 NAVER 커버리지 갭 가능성. 회수: 한경컨센서스·네이버 증권 컨센서스 페이지 조회, 메리츠·하나 리포트 원문 확인.[자료 접근 한계] §2-3 — 실적·주가 흐름 관련 en.sedaily.com 기사 WebFetch 403 실패. 사유: 봇 차단. 회수: NAVER 뉴스 보존본·다른 매체 카피본 재검색, 키워드 "테스 반도체 장비 영업이익 2026".[자료 접근 한계] §8-3 — 2026-06-05 SK하이닉스 관련 단일판매·공급계약 본문이 DART상 영구 부재(status 014/013)로 계약 규모·상대·기간 미상. 사유: 자료 자체 부재. 회수: 회사 IR 문의, 유사 시점 정정공시·후속 공시 대조.[자료 접근 한계] §8-3 — disclosure_search 응답에 미완 일자 6건(2026-06-09·06-25·06-26·07-01·07-07·07-08) 포함으로 최근 공시 누락 가능. 사유: 수집 파이프라인 미완. 회수: pipeline_disclosure_list_dates_fill 완료 후 disclosure_search(corp_code, since="2026-06-05") 재호출.[검증 필요] §7-2 — 경영진·지배구조 특이 리스크(소송·경영권 등) 관련 자료 미확보로 §7-2에서 [N/A] 처리. 사유: 본 라운드 미탐색. 회수: 사업보고서 "이사회 등 회사의 기관"·"임원 및 직원" 섹션 disclosure_fetch, 공시 keywords=["소송","분쟁"] 검색.[시점 한계] §8-3 — SiGe 장비 연내 개발 완료(2026-12-31 목표)·2026년 3분기 실적(2026-11)·SK하이닉스 계약 종료(2027-01-11)는 미래 이벤트. 사유: 시점 미도래. 회수: 각 일정 도래 후 disclosure_search·분기보고서 재호출.✅ 테스, 수입 의존한 3D D램용 식각 장비 국산화...연내 개발 목표
https://www.thelec.kr/news/articleView.html?idxno=58959
출처: @FastStockNews 원문↗